硫化亞鐵主要用于分析試劑。硫化氫和其他硫化物的制備。主要用于制取硫化氫，也用以制陶瓷及用作油漆顏料等。硫化亞鐵的著火點很低，通常在約在50℃以上可以自燃。在石油煉制塔設(shè)備內(nèi)表面及內(nèi)填料都會產(chǎn)生硫化亞鐵，在停工維修過程中，設(shè)備及填料與氧接觸，加上光照使其溫度上升，很容易造成自燃。這樣的生產(chǎn)事故以前常有發(fā)生，所以通常一般定期地往停工狀態(tài)的塔設(shè)備注水，就是這個原因。

MoSi2具有高達(dá)2030°C的高熔點、較低的密度(6.24g/cm3)和優(yōu)異的高溫抗氧化性能以及良好的導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性，故被認(rèn)為是繼Ni基高溫合金(使用溫度<1100°C)以及第二代高溫TiAl合金之后的第三代超高溫結(jié)構(gòu)材料。但是，MoSi2也有一些致命的缺點，阻礙了它的實際應(yīng)用。除了低溫脆性較大(韌脆轉(zhuǎn)變溫度在900~1000°C)、1300°C以上高溫強度不足，尤其是蠕變抗力比較低之外，MoSi2在400~600°C會出現(xiàn)加速氧化的現(xiàn)象，*終會由致密體變成粉末，引起材料災(zāi)難性的毀壞。這種低溫氧化現(xiàn)象在學(xué)術(shù)界被稱作Pest現(xiàn)象，是該材料作為實用的高溫結(jié)構(gòu)材料的一個研發(fā)難點。

目前關(guān)于MoSi2的Pest現(xiàn)象機(jī)理的研究認(rèn)為:Mo氧化物的揮發(fā)導(dǎo)致SiO2膜不連續(xù)和不致密；樣品本身不夠致密或者存在裂紋，使得氧原子能夠快速進(jìn)入材料內(nèi)部；雜質(zhì)元素O，N在晶界優(yōu)先擴(kuò)散等，這些因素導(dǎo)致材料快速氧化。基于上述分析，目前對于克服MoSi2的Pest問題的研究思路，主要有以下幾種:提高M(jìn)oSi2的純度；提高材料的致密度；添加相對于Si與O有更強親和力的元素，降低內(nèi)部氧化造成的體積膨脹，從而抑制Pest效應(yīng)；采用高溫預(yù)氧化形成致密的SiO2膜，在材料表面形成玻璃保護(hù)層，降低氧化速率，等等。